分辨率 10nm | JEOL / Raith 设备
NIKON G6 / I7 / I10 / I12 系列
SUSS MA6 / EVG 系列
高精度纳米级图案转移
全自动光刻胶涂布与显影
亚微米至纳米级精度
覆盖 EBL、Stepper、接触式等多种光刻方案
STS / 北方微电子 8″ / SPTS
爱发科 (ULVAC) 系列
Lam Research 系列
高定向性物理刻蚀
29 台套刻蚀设备集群
深硅、介质、金属全品类刻蚀能力
Oxford / AMAT 设备
金属及介质薄膜沉积
Optorun 设备
纳米级精确膜厚控制
亚纳米级膜厚控制
CVD、PVD、ALD 全方案覆盖
硅-玻璃键合，高可靠性
高精度金属共晶连接
SUSS XB8 设备
多方案晶圆级键合
阳极、共晶、直接键合全覆盖
精确掺杂剂量控制
Disco 系列划片设备
德龙飞秒激光器
高质量半导体外延生长
后端工艺全覆盖
掺杂→封装→划片一站式完成
JEOL 冷场发射，纳米级分辨率
Olympus 系列，三维形貌测量
PerkinElmer / Cascade 设备
NIKON 高精度 X-ray 检测系统
多维度检测表征
SEM、共聚焦、LIV、X-ray 全覆盖