核心设备

三大设备集群,29 台套刻蚀设备,覆盖从光刻到检测的全工艺链条

刻蚀设备集群

29 台套

涵盖深硅刻蚀、金属刻蚀、离子束刻蚀等全品类刻蚀能力

STS 深硅刻蚀
北方微电子 8″ 刻蚀
SPTS 深硅刻蚀
ULVAC ICP/RIE
Lam Research 金属刻蚀
IBE 离子束刻蚀

光刻设备集群

纳米级精度

从电子束光刻到步进式光刻,满足不同精度和产能需求

NIKON G6 / I7 / I10 / I12 Stepper
SUSS MA6 接触式光刻
EVG 系列光刻机
JEOL / Raith EBL 电子束光刻
纳米压印光刻设备
Track 匀胶显影系统

镀膜 / 封装 / 检测设备

全链条覆盖

从薄膜沉积到封装检测,确保产品全流程质量可控

Oxford PECVD
AMAT LPCVD
Optorun 电子束蒸发
磁控溅射 / PEALD
Disco 划片 / 飞秒激光
WestBond 引线键合机
29台套

刻蚀设备集群

4/6/8

兼容晶圆产线

千级

超净实验室

10年+

团队行业经验

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我们的技术团队随时为您提供详细的设备能力和工艺参数

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